Inlens 探测器均放置 在镜筒内正光轴上, 在减少重新校准耗时 的同时有效地缩短了获取图像的时间。 Gemini 电子束推进器技术可以在非常 低的加速电压下仍获得小束斑和高信噪比。
此外, 它确保了电子束在镜筒中运动时始 终保持高加速电压, 直至出镜筒后才减速 至设定电压, 更大程度地减小外部杂散磁 场对系统灵敏度的影响。GeminiSEM 360 、 GeminiSEM 460 和 GeminiSEM 560 三 者 均 应用了 Gemini 设计、 Inlens 探测器和电子 束推进器技术。
充分发挥 Gemini 2 型光学系统的性能优势
GeminiSEM 460 的 特 殊 之 处 在 于 配 备 的 Gemini 2 型光学系统主要运用了双聚光镜, 在获得理想的小电子束斑同时可连续调节束 流。这使高电子束能量密度下的低束流高分 辨率成像和高束流分析得到了。此外, 您也可以在不同的成像模式之间进行无缝切 换或更改成像参数。此操作简便快速,因为 在更改成像参数后无需进行校准,而且经调 校的扫描电镜可以保持稳定地工作。
Nano-twin 物镜
Nano-twin 物镜是一种在低加速电压条件下 工作的电镜( EM ) 物镜。通过优化几何结 构和静电场及磁场分布, 获得出色的信号 探测效率, 从而可以在低电压下达到亚纳 米级分辨率。具体来说, 与标准的 Gemini 物镜相比,它在低电压下的像差降低了 3 倍。这使得样品上的磁场降低了 3 倍, 约 为 1mT ,并能够进行 1kV 以下亚纳米成像, 而无需将样品浸没在电磁场中。
• 通过 Nano-twin 物镜实现低电压下的优 化高分辨率
• 通过新的大视野概览模式实现样品导航和 高分辨率成像之间的无缝过渡
• 通过新的自动聚焦功能和新的快速镜筒对 中算法实现高速优化图像质量。
智能自动光路调节优化了通过镜筒的电子轨 迹,从而确保了在每个加速电压下尽可能高 的分辨率。它还引入了新的自动功能,在整 个放大倍数范围内(从 1 倍到 2,000,000 倍) 实现无缝对准自由切换,并将观察视野增 加了 10 倍,从而可以在单幅图像中完整成 像 13 厘米的物体。GeminiSEM 560 保持了 市场上尺寸达 32k × 24k 的超大图像存储像素, 在大视野无畸变拼接成像方面优势。
大部分的背 散射电子能够穿过 Inlens SE 探测器,并被 EsB 探测器收集。此外, Inlens EsB 探测器 还可有选择地收集不同能量的背散射电子。 如果出射角大于 15 度, 则 BSE 无法进入镜 筒,但会被 AsB (角度选择背散射) 或可 抽插式 aBSD 探测器探测到。aBSD 探测器 能够提供样品的成分衬度、形貌和 3D 表面 信息。样品室背散射电子探测器( BSD )和 扫描透射电子探测器可以在低加速电压下 拥有更率,且能实现超速成像。
在工业质量、失效分析或研究环境中,由于扫描电子显微镜 可提供高分辨率成像和高空间分辨率元素化学信息,所以它
是金相学和失效分析应用的理想之选。
产品应用领域
■ 金属 / 高分子 / 陶瓷材料
表面粗糙度分析, 高分辨金相分析, 摩擦磨损分析, 断口分析, 腐蚀研究, 原位分析。
■ 微纳加工
结构分析,表面粗糙度分析, 高深宽比结构表征,膜厚测量。
■ 半导体和微电子
表面缺陷定位和分析、发光缺陷观察,表面粗糙度分析,膜厚测量等。
■ 医疗器械检测
表面粗糙度分析,金相分析,膜厚测量,微生物观察等。
■ 生物材料和医学
金属表面细胞生长研究, 微生物金属腐蚀研究, 植入物表面细菌生长表征等。
成像灵活.光学显微镜和共聚焦显微镜二合一
■ 实现反射光和透射光的观察, 同时也可进 行形貌表征;
■ 使用宽场观察方式实现样品的定位, 便于 共聚焦显微镜进—步原位分析;
■ 无需切换显微镜, 减少仪器设置时间, 提 高获得结果的效率。